Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
03/15/2016
RPI 2358
Application data
Number
PI0210587Type
Filing
Publication
PCT
IB2002003084 The application was allowed on 06/23/2015 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.
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Applicants
Bayer Antwerpen N.V.
BE
Inventors
J. R. (pessoa física)
DE
S. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/886,510 · 06/21/2001
Abstract
"PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE MISTURAS DE POLIOL". A presente invenção refere-se a um processo para a produção in situ de uma mistura de um poliéter monol com um poliéter poliol. Este processo consiste em introduzir em um vaso de reação um monol (Si) e um catalisador cianeto metálico duplo (DMC), alimentando uma mistura de epóxido no vaso e deixando o epóxido reagir com o iniciador inicial e continuar a polimerizar alimentando-se o epóxido até que o peso equivalente do composto monofuncional atinja o nível desejado, e então adicionar continuamente um iniciador polifuncional (S~ c~) ao reator enquanto se continua a alimentar a mistura de epóxido, completando a adição ao iniciador e permitindo que a mistura continue a polimerizar no vaso de reação até que a mistura de poliéter monol e poliéter poliol resultante tenha um peso equivalente médio de cerca de 350 a cerca de 750 e uma funcionalidade média de cerca de 2 a cerca de 4. Misturas polimerizadas in situ de um poliéter monol com um poliéter poliol também fazem parte da presente invenção. A presente invenção também refere-se a um processo para a produção de espumas viscoelásticas. Este processo consiste na reação de um componente poliisocianato com um componente reativo a isocianato, na presença de aditivos, em que o componente reativo a isocianato consiste em pelo menos 50 % em peso da mistura polimerizada in situ de um poliéter monol e de um poliéter poliol como descrito acima.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.4
03/15/2016
RPI 2358
#9.1
06/23/2015
RPI 2320
#6.1
03/24/2015
RPI 2307
#7.1
04/05/2011
RPI 2100
#1.3
08/10/2004
RPI 1753
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