Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27.11.2022
12/27/2022
RPI 2712
Application data
Number
PI0208127Type
Filing
Publication
PCT
US2002006370 The letters patent expired on 12/27/2022: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/27/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
GE Betz, Inc.
US
Inventors
F. C. (pessoa física)
US
J. K. (pessoa física)
US
K. B. (pessoa física)
US
N. K. (pessoa física)
US
R. M. (pessoa física)
US
S. K. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/806,679 · 03/15/2001
US
09/878,646 · 06/11/2001
Abstract
"MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS". A presente invenção refere-se a novos polímeros solúveis em água ou dispersáveis em água úteis para inibir a formação e deposição de porções formadoras de incrustação em sistemas aquosos que consistem em unidades repetitivas caracterizadas pela fórmula I em que E é a unidade repetitiva que permanece após a polimerização de um composto etilenicamente insaturado; preferencialmente um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfônico ou sua forma de amida ou suas misturas. R~ 1~ é hidrogênio ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida, G é -CH~ 2~- ou -CHCH~ 3~-; R~ 2~ é -(-CH~ 2~-CH~ 2~-O-)-n ou -(-CH~ 2~-CHCH~ 3~-O-)-m onde n e m situam-se na faixa de cerca de 1 a 100, preferencialmente n é maior do que 10 e m situa-se na faixa de cerca de 1 a 20. X é um radical aniônico selecionado do grupo constituído em SO~ 3~, PO~ 3~ ou COO; Z é H ou hidrogênios ou qualquer porção catiônica solúvel em água que contrabalance a valencia do radical aniônico X, incluindo mas não-limitado a Na, K, Ca ou NH~ 4~. F, quando presente, é uma unidade repetitiva tendo a estrutura da Fórmula II: na qual X e Z são os mesmos que na Fórmula I. R4 é H ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida. R~ 5~ é alquila ou alquileno substituído por hidróxi tendo cerca de 1 a 6 átomos de carbono.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 27.11.2022
12/27/2022
RPI 2712
#16.1
11/27/2012
RPI 2186
#9.1
07/17/2012
RPI 2167
#6.1
02/07/2012
RPI 2144
#6.1
06/14/2011
RPI 2110
#15.22
Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 81 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.
04/06/2010
RPI 2048
#7.1
10/13/2009
RPI 2023
#1.3.1
Referente à RPI nº 1733 de 23/03/2004, quanto ao ítem 72
06/29/2004
RPI 1747
#1.3
03/23/2004
RPI 1733
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