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Official data from INPI

MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS.

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2002006370

Application data

Number

PI0208127

Type

Invention Patent

Filing

03/01/2002

Publication

03/23/2004

PCT

US2002006370

Progress at the INPI

  1. Filing03/01/02
  2. Publication03/23/04
  3. Examination
  4. Allowance07/17/12
  5. Grant11/27/12
  6. Expired12/27/22

The letters patent expired on 12/27/2022: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/27/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

GE Betz, Inc.

US

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Inventors

F. C. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

K. B. (pessoa física)

US

N. K. (pessoa física)

US

R. M. (pessoa física)

US

S. K. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/806,679 · 03/15/2001

US

09/878,646 · 06/11/2001

Abstract

"MÉTODO PARA CONTROLE DE FORMAÇÃO DE INCRUSTAÇÃO E DEPOSIÇÃO EM SISTEMAS AQUOSOS". A presente invenção refere-se a novos polímeros solúveis em água ou dispersáveis em água úteis para inibir a formação e deposição de porções formadoras de incrustação em sistemas aquosos que consistem em unidades repetitivas caracterizadas pela fórmula I em que E é a unidade repetitiva que permanece após a polimerização de um composto etilenicamente insaturado; preferencialmente um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfônico ou sua forma de amida ou suas misturas. R~ 1~ é hidrogênio ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida, G é -CH~ 2~- ou -CHCH~ 3~-; R~ 2~ é -(-CH~ 2~-CH~ 2~-O-)-n ou -(-CH~ 2~-CHCH~ 3~-O-)-m onde n e m situam-se na faixa de cerca de 1 a 100, preferencialmente n é maior do que 10 e m situa-se na faixa de cerca de 1 a 20. X é um radical aniônico selecionado do grupo constituído em SO~ 3~, PO~ 3~ ou COO; Z é H ou hidrogênios ou qualquer porção catiônica solúvel em água que contrabalance a valencia do radical aniônico X, incluindo mas não-limitado a Na, K, Ca ou NH~ 4~. F, quando presente, é uma unidade repetitiva tendo a estrutura da Fórmula II: na qual X e Z são os mesmos que na Fórmula I. R4 é H ou (C~ 1~-C~ 4~)alquila reduzida. R~ 5~ é alquila ou alquileno substituído por hidróxi tendo cerca de 1 a 6 átomos de carbono.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 27.11.2022

12/27/2022

RPI 2712

Concessão da patente

#16.1

11/27/2012

RPI 2186

Deferimento

#9.1

07/17/2012

RPI 2167

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

02/07/2012

RPI 2144

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

06/14/2011

RPI 2110

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Devolução de Prazo Concedida - Reconhecido o obstáculo administrativo e devolvido o prazo de 81 dias, nos termos do artigo 221 parágrafo 2º da LPI e da resolução 116/04.

04/06/2010

RPI 2048

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/13/2009

RPI 2023

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Referente à RPI nº 1733 de 23/03/2004, quanto ao ítem 72

06/29/2004

RPI 1747

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/23/2004

RPI 1733

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