PROCESSO PARA RETIRADA DE MONÔMERO RESIDUAL COM UM GRUPO FUNCIONAL EPÓXIDO EM UMA COMPOSIÇÃO TERMOPLÁSTICA

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Abstract

"PROCESSO PARA RETIRADA DE MONÔMERO RESIDUAL COM UM GRUPO FUNCIONAL EPÓXIDO EM UMA COMPOSIÇÃO TERMOPLÁSTICA". A invenção relaciona-se a um processo para capturar um monômero livre que não foi reagido por copolimerização ou por graftização compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido em uma composição termoplástica baseada em etileno e/ou em propileno e baseada em pelo menos um monômero compreendendo pelo menos um grupo funcional epóxido, o referido processo compreendendo os seguintes estágios: - preparação da referida composição termoplástica; - adição de uma quantidade suficiente de um aditivo de captura sólido exibindo, em sua superfície, locais com uma natureza básica dentro do significado de Lewis ou Brönsted. O aditivo de captura é um zeólito poroso, o diâmetro dos poros deste está entre 5 a 15 angströms, preferivelmente, entre 6 e 13 angströms. A invenção também se relaciona à composição obtida por tal processo e às combinações compreendendo tal composição.