(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

PROCESSO DE NITRETAÇÃO IÔNICA POR PLASMA PULSADO PARA OBTENÇÃO DE BARREIRA DE DIFUSÃO PARA O HIDROGÊNIO PARA O AÇO API 5L X-65

ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0205419

Type

Invention Patent

Filing

12/20/2002

Publication

07/20/2004

Progress at the INPI

  1. Filing12/20/02
  2. Publication07/20/04
  3. Examination
  4. Allowance08/15/17
  5. Grant10/24/17
  6. Terminated05/04/21

The patent was granted on 10/24/2017 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 05/04/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

COPPE/UFRJ - COORDENAÇÃO DOS PROGRAMAS DE PÓS GRADUAÇÃO DE ENGENHARIA DA UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO DE JANEIRO

RJ, BR

INSTITUTO ALBERTO LUIZ COIMBRA DE PÓS GRADUAÇÃO E PESQUISA DE ENGENHARIA - COPPE/UFRJ

RJ, BR

See this company's full portfolio

Inventors

B. T. (pessoa física)

BR

J. F. (pessoa física)

AR

P. M. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"BARREIRA DE DIFUSÃO PARA HIDROGÊNIO EM AÇO USANDO PROCESSO DE NITRETAÇÃO IÔNICA POR PLASMA PULSADO". A presente invenção refere-se a um processo de nitretação iônica por plasma pulsado visando a formação de barreira de difusão para o hidrogênio em aços, aqui exemplificado para o aço API 5L X-65, um aço de alta resistência mecânica e baixa liga. A nitretação iônica por plasma pulsado consistiu em guiar íons e espécies ativas de nitrogênio atômico e molecular até a superfície do material pela aplicação de uma diferença de potencial entre dois eletrodos, interrompida periodicamente com uma frequência pré-determinada, onde o catodo é o próprio material (ou peça) a ser tratado, em uma câmara previamente evacuada na qual o gás nitrogênio au uma mistura gasosa contendo este gás é introduzida.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2610 de 12-01-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/04/2021

RPI 2626

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

01/12/2021

RPI 2610

Restauração da patente

#24.4

12/11/2018

RPI 2501

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 16ª anuidade.

10/30/2018

RPI 2495

Concessão da patente

#16.1

10/24/2017

RPI 2442

100

Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]

08/15/2017

RPI 2432

121

Recorrente: O depositante.@Despacho: Cumpra as exigências do parecer técnico.[121]

05/23/2017

RPI 2420

Alteração de nome deferida

#25.4

05/16/2017

RPI 2419

136

Despacho: De acordo com o artigo 216 da lei 9.279/1996 a petição NPRJ 020150015919 de 02/10/2015, é não conhecida. [136]

11/29/2016

RPI 2395

8.7

03/01/2016

RPI 2356

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 12ª anuidade

10/06/2015

RPI 2335

121

Recorrente: O depositante.@Despacho: Cumpra as exigências do parecer técnico.[121]

08/04/2015

RPI 2326

Petição de recurso

#12.2

06/28/2011

RPI 2112

Indeferimento

#9.2

Indefiro o pedido de acordo com o Art. 8º da Lei 9. 279/96.

12/21/2010

RPI 2085

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/29/2010

RPI 2060

Retificação de publicação

#3.8

Referente à RPI 1750 de 20/07/2004, quanto ao item (72).

11/18/2008

RPI 1976

6.7

Para que a solicitação requerida na petição nº 056040/RJ de 06/10/2003 seja atendida, apresente declaração dos demais inventores do pedido, confirmando tal alteração.

05/20/2008

RPI 1950

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/20/2004

RPI 1750

Pedido de patente depositado

#2.1

03/18/2003

RPI 1680

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.