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Official data from INPI

PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU TOTAL IMPERMEABILIZAÇÃO CONTRA A ÁGUA, PARA PROTEÇÃO DE SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0203566

Type

Invention Patent

Filing

05/28/2002

Publication

05/25/2004

Progress at the INPI

  1. Filing05/28/02
  2. Publication05/25/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 06/14/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. C. (pessoa física)

SP, BR

M. S. (pessoa física)

SP, BR

N. D. (pessoa física)

SP, BR

R. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

A. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

N. D. (pessoa física)

BR

R. C. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

"PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU TOTAL IMPERMEABILIZAÇÃO CONTRA A ÁGUA, PARA PROTEÇÃO DE SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO". Onde o reagente hexametildissilazana, abreviado HMDS, é usado em três processos e/ou metodologias de proteção de grãos contra ataque de microrganismos e/ou sua total impermeabilização contra água, a partir da modificação das fibras ligno-celulósicas, tanto por via seca quanto úmida. Os processos são como segue: Processo I) Deposição usando vapor de HMDS: Utiliza-se um reator a vácuo, com capacidade de obter pressão última da ordem de dezenas de Torr. É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara e um pré-vácuo, também de dezenas de Torr, e que permitia a total exposição da amostra ao vapor de HMDS. Processo II) Deposição por "spray": Utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara com um sistema de inserção de gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de HMDS. Processo III) Processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: Deposita-se uma camada a base de HMDS, afim de tornar suas superfícies impermeáveis à água e resistentes à corrosão por ácidos, bases e luz ultravioleta. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mTorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2060 de 29/06/2010.

06/14/2011

RPI 2110

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 6ª, 7ª e 8ª anuidade(s).

06/29/2010

RPI 2060

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/25/2004

RPI 1742

Pedido de patente depositado

#2.1

10/15/2002

RPI 1658

Patent monitoring

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