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Official data from INPI

PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU HIDROFILIZAÇÃO, PARA TRATAMENTO DE SEMENTES, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO, E SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0203565

Type

Invention Patent

Filing

05/28/2002

Publication

05/25/2004

Progress at the INPI

  1. Filing05/28/02
  2. Publication05/25/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 06/14/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. C. (pessoa física)

SP, BR

M. S. (pessoa física)

SP, BR

R. C. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

A. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

R. C. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

"PROCESSO DE PROTEÇÃO CONTRA ATAQUE DE MICRORGANISMOS E/OU HIDROFILIZAÇÃO, PARA TRATAMENTO DE SEMENTES, ESPECIALMENTE GRÃOS DE CONSUMO HUMANO, E SUPERFÍCIES LIGNO-CELULÓSICAS". Onde o reagente tetractilortossilicato, abreviado TEOS, é usado em dois processos elou metodologias de fabricação de camada protetora, para sementes e superfícies ligno-celulósicas, que permitem proteção contra ataque de microrganismos, hidrofilização da superfície, germinação com maior velocidade e em condições de menor umidade relativa. Os processos são como segue: Processo I) Deposição por "spray": Utiliza-se um reator formado por sistema de inserção de gases e bicos de injeção ("spray"). É recomendável que este reator tenha uma pré-câmara para controle de umidade e exposição a gases. Esse reator também deve permitir a total exposição da amostra ao jato de TEOS. O jato de TEOS deve ser formado em câmara separada e aquecida. Processo II) Processo de deposição química a vapor enriquecida por plasma: Deposita-se uma camada a base de TEOS, afim de tornar as superfícies resistentes a microrganismos e a vapor de água, mas não a água. O reator necessário para tal processamento deve permitir a injeção de gases e líquidos, possuir pressão última da ordem de 1 mTorr e operar com gerador de potência, em freqüências alternadas ou contínua.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2055 de 25/05/2010.

06/14/2011

RPI 2110

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 6a., 7a., e 8a. anuidades.

05/25/2010

RPI 2055

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/25/2004

RPI 1742

Pedido de patente depositado

#2.1

10/22/2002

RPI 1659

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