Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
REFERENTE AO DESPACHO PUBLICADO NA RPI 1980 DE 16/12/2008.
11/17/2009
RPI 2028
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Official data from INPI
SUBSTRATO MALEÁVEL PARA POLIR METAIS
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0201730Type
Invention Patent
Filing
04/24/2002
Publication
02/17/2004
Progress at the INPI
- Filing04/24/02
- Publication02/17/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/17/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
I. P. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
I. P. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
"SUBSTRATO MALEÁVEL PARA POLIR METAIS". Que foi desenvolvido para polir metais em geral, sem uso de aditivos e acessórios, sendo então compreendido por um substrato sintético [1], bem maleável, impregnado com componentes microabrasivos e reagentes lustradores, sendo este substrato [1] adesivado sobre uma fina camada de espuma de poliuretano [2], que lhe serve para dar baseamento e volume.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª,4ª,5ª e 6ª anuidades.
12/16/2008
RPI 1980
15.7
Não conhecida a petição n° 018060117325/SP de 23 / 10 / 2006 em virtude do disposto no Art. 219, inciso II da LPI.
02/21/2007
RPI 1885
15.7
Não conhecida a petição n° 018060117329/SP de 23/10/2006 em virtude do disposto no Art. 219, inciso II da LPI.
01/16/2007
RPI 1880
Desarquivamento
#4.3
01/16/2007
RPI 1880
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
08/22/2006
RPI 1859
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/17/2004
RPI 1728
Pedido de patente depositado
#2.1
06/18/2002
RPI 1641
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