Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2170 de 07/08/2012.
07/30/2013
RPI 2221
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/30/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
I. P. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
I. P. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
CONFIGURAÇÃO INTRODUZIDA EM INSTRUMENTO PARA LIMPEZA E POLIMENTOS GERAIS. Patente de modelo de utilidade tem por objetivo inovar e revolucionar o mercado mundial 5através de um instrumento para limpeza e polimentos gerais, o qual consiste em uma luva confeccionada em um tecido especial, também aplicado ao mesmo um produto químico com finalidade de limpar e polir, implantando um novo método e conceito para se obter eficiência, segurança e praticidade para profissionais que necessitam de loinstrumento para limpar e polir: vidros, telas de notebook, telas de televisores e todos os tipos de superficies metálicas livres de pinturas. O objeto da patente em questão consiste em uma luva (1), confeccionada em tecido (2) aonde é impregnado o produto químico (3), assim o tecido (2) ao receber o produto (3) acaba formando a luva (1) CONFIGURAÇÃO INTRODUZIDA EM INSTRUMENTO PARA LIMPEZA E POLIMENTOS GERAIS.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2170 de 07/08/2012.
07/30/2013
RPI 2221
#8.6
Referente a 3ª anuidade(s).
08/07/2012
RPI 2170
#3.1
06/28/2011
RPI 2112
#2.1
04/20/2010
RPI 2050
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