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Official data from INPI

CONFIGURAÇÃO INTRODUZIDA EM INSTRUMENTO PARA LIMPEZA E POLIMENTOS GERAIS

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8902325

Type

Utility Model

Filing

10/23/2009

Publication

06/28/2011

Progress at the INPI

  1. Filing10/23/09
  2. Publication06/28/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 07/30/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

I. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

I. P. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

CONFIGURAÇÃO INTRODUZIDA EM INSTRUMENTO PARA LIMPEZA E POLIMENTOS GERAIS. Patente de modelo de utilidade tem por objetivo inovar e revolucionar o mercado mundial 5através de um instrumento para limpeza e polimentos gerais, o qual consiste em uma luva confeccionada em um tecido especial, também aplicado ao mesmo um produto químico com finalidade de limpar e polir, implantando um novo método e conceito para se obter eficiência, segurança e praticidade para profissionais que necessitam de loinstrumento para limpar e polir: vidros, telas de notebook, telas de televisores e todos os tipos de superficies metálicas livres de pinturas. O objeto da patente em questão consiste em uma luva (1), confeccionada em tecido (2) aonde é impregnado o produto químico (3), assim o tecido (2) ao receber o produto (3) acaba formando a luva (1) CONFIGURAÇÃO INTRODUZIDA EM INSTRUMENTO PARA LIMPEZA E POLIMENTOS GERAIS.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2170 de 07/08/2012.

07/30/2013

RPI 2221

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 3ª anuidade(s).

08/07/2012

RPI 2170

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/28/2011

RPI 2112

Pedido de patente depositado

#2.1

04/20/2010

RPI 2050

Patent monitoring

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