Processo para a produção de revestimentos, método de motivar um fotoiniciador de se acumular na superfície dos revestimentos, fotoiniciador tensoativo, uso de compostos da Fórmula I, composição e substrato revestido

IPC Classification

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Abstract

"PROCESSO PARA A PRODUÇÃO DE REVESTIMENTOS USANDO FOTOINICIADORES TENSOATIVOS". Compostos da fórmula I em que r é um número 1 ou 2; s é um número de 1 a 1000; R é um radical da fórmula II ou R é, por exemplo, naftila, antracila, fenantrila não-substituídas ou substituídas ou um radical heterociclico, R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 4~ e R~ 5~ independentemente um do outro são, por exemplo, hidrogênio; fenila ou alquila C~ 1~-C~ 12~ não-substituída ou substituídas; A, SE S for 1, é um radical tensoativo da fórmula III ou A, se s for 1, é um radical tensoativo A~ 0~; ou A, se s for um número maior do que 1, é um radical da fórmula III em que n corresponde ao número s, ou A, se s for 2, é um radical A~ 1~; A~ 0~ é, por exemplo, em cada caso alquila C~ 6~- C~ 30~, alquenila C~ 6~-C~ 30~, alquinila C~ 6~-C~ 30~ ou aralquila C~ 6~-C~ 30~ não-substituídas ou substituídas; A~ 1~ é, por exemplo, em cada caso alquileno C~ 6~-C~ 30~, alquenileno C~ 6~-C~ 30~, alquinileno C~ 6~-C~ 30~ ou aralquileno C~ 6~- C~ 30~ não-substituídos ou substituídos; n é, por exemplo, um número de 1 a 1000; m é um número de 0 a 100; p é um número de 0 a 10.000; x é um número de 1 a 10; Y, se r for 1, é um grupo divalente e Y, se r for 2, é um grupo trivalente, e Y, se A tiver a definição A~ 0~, é uma ligação única; G~ 1~, G~ 2~,R~ 13~, R~ 14~, R~ 15~ R~ 17~ R~ 18~ R~ 19~ R~ 20~ R~ 21~ e R~ 22~ são, por exemplo, alquila C~ 1~-C~ 18~; são particularmente adequados como fotoiniciadores que se acumulam na superfície em um processo para revestimentos de cura.