REVESTIMENTO DE BARREIRA DEPOSITADO POR PLASMA, COMPREENDENDO UMA CAMADA DE INTERFACE, PROCESSO DE OBTENÇÃO DESSE REVESTIMENTO E RECIPIENTE ASSIM REVESTIDO

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Abstract

"REVESTIMENTO DE BARREIRA DEPOSITADO POR PLASMA, COMPREENDENDO UMA CAMADA DE INTERFACE, PROCESSO DE OBTENÇÃO DESSE REVESTIMENTO E RECIPIENTE ASSIM REVESTIDO". A invenção refere-se notadamente a um processo que utiliza um plasma à baixa pressão para depositar um revestimento de barreira sobre um substrato a ser tratado, do tipo no qual o plasma é obtido por ionização parcial sob a ação de um campo eletromagnético, de um fluido reacional injetado sob baixa pressão em uma zona de tratamento, caracterizado pelo fato de comportar pelo menos uma etapa que consiste em depositar sobre o substrato uma camada interface que é obtida levando ao estado de plasma uma mistura que comporta pelo menos um composto organossilicado e um composto nitrogenado, e uma etapa que consiste em depositar, sobre a camada de interface, uma camada de barreira, composta essencialmente de um óxido de silício de fórmula SiOx.