Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/18/2006
RPI 1841
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Official data from INPI
MÉTODO E SISTEMA PARA REMOÇÃO DE PÓ E DE EMANAÇÕES EM MÁQUINAS DE MARCAÇÃO À LASER
ArquivadaInvention PatentPCT · US2001018629
Application data
Number
PI0112593Type
Invention Patent
Filing
06/08/2001
Publication
07/22/2003
PCT
US2001018629 Progress at the INPI
- Filing06/08/01
- Publication07/22/03
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 06/08/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/18/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Advanced Micro Devices, INC.
US
Inventors
P. P. (pessoa física)
TH
S. S. (pessoa física)
TH
S. V. (pessoa física)
TH
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
09/619.984 · 07/20/2000
Abstract
"MÉTODO E SISTEMA PARA REMOÇÃO DE PÓ E DE EMANAÇÕES EM MÁQUINAS DE MARCAÇÃO A LASER". São apresentados aspectos de remoção de pó e de emanações para uma máquina de marcação a laser (16) . Em um aspecto do sistema, o sistema inclui um conjunto a vácuo (20, 22 e 24), que opera de acordo com o Efeito de Coanda, para a remoção do pó e das emanações de uma máquina de marcação a laser (16), através de sucção. O sistema ainda inclui um mecanismo de controle acoplado ao conjunto a vácuo (20, 22 e 24), para ligar e desligar o conjunto a vácuo (20, 22 e 24) . Um sistema de drenagem (28 e 30), acoplado ao conjunto a vácuo (20, 22 e 24), descarta o pó e as emanações a partir do conjunto a vácuo (20, 22 e 24) de uma instalação que aloja a máquina de marcação a laser (16).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
10/04/2005
RPI 1813
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
07/22/2003
RPI 1698
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