Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/18/2006
RPI 1841
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Official data from INPI
PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA SOBRE UM SUBSTRATO
ArquivadaInvention PatentPCT · US2001008824
Application data
Number
PI0109351Type
Invention Patent
Filing
03/20/2001
Publication
12/03/2002
PCT
US2001008824 Progress at the INPI
- Filing03/20/01
- Publication12/03/02
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/20/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/18/2006. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Advanced Micro Devices, INC.
US
Fujitsu Limited
JP
Inventors
A. H. (pessoa física)
US
J. O. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
09/532.347 · 03/21/2000
Abstract
"PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA SEMICONDUTORA SOBRE UM SUBSTRATO". Um processo para a formação de óxido de alto grau de qualidade com múltiplas camadas de espessura que têm diferentes espessuras, por eliminação de defeitos induzidos por remoção de escória. O processo inclui a formação de uma camada de óxido (2), o mascaramento da camada de óxido com uma camada de fotorresistor (8) e a revelação da camada de fotorresistor para expor pelo menos uma região (10) da camada de óxido. O substrato é então aquecido e tem a escória removida para remover qualquer resíduo que resulta da revelação do fotorresistor. Alternativamente, a camada de fotorresistor (8) pode ser submetida a cura antes do aquecimento e da remoção de escória do substrato. A camada de óxido (2) é então quimicamente atacada; e o fotorresistor (8) resistente é retirado antes de outra camada de óxido (14) ser aplicada sobre o substrato.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
09/27/2005
RPI 1812
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/03/2002
RPI 1665
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