Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: H01L 21/8247; H01L 21/8246.
03/27/2018
RPI 2464
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Official data from INPI
PROCESSO DE ESPAÇADOR DUPLO PARA DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA NÃO VOLÁTIL
ArquivadaInvention PatentPCT · US2001007975
Application data
Number
PI0109318Type
Invention Patent
Filing
03/12/2001
Publication
12/10/2002
PCT
US2001007975 Progress at the INPI
- Filing03/12/01
- Publication12/10/02
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/12/2001 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/27/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Advanced Micro Devices, INC.
US
Inventors
A. H. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
M. C. (pessoa física)
US
M. R. (pessoa física)
US
T. P. (pessoa física)
US
Y. S. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
09/728.554 · 12/01/2000
US
60/190.475 · 03/17/2000
Abstract
"PROCESSO DE ESPAÇADOR DUPLO PARA DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA NÃO VOLÁTIL". Em um processo para fabricação de espaçador de duas etapas para um dispositivo de memória não volátil (1), uma camada de óxido fina (12) é depositada sobre um substrato de bolacha (3) deixando uma fenda no núcleo (24) do dispositivo de memória não volátil (1). A implantação e/ou remoção de óxido-nitreto-óxido pode ser realizada através desta fenda. Após implantação, um segundo espaçador (13) é depositado. Após a segunda deposição do espaçador, é realizada uma gravação em água-forte do espaçador periférico. O espaçador é formado pelo processo acima.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
04/18/2006
RPI 1841
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
09/27/2005
RPI 1812
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/10/2002
RPI 1666
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