Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 16.08.2021
09/08/2021
RPI 2644
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Official data from INPI
PROCESSO PARA REMOVER NÉVOA DE ÁCIDO SULFÚRICO E APARELHO PARA REMOVER O MESMO.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0103411Type
Invention Patent
Filing
08/16/2001
Publication
08/27/2002
Progress at the INPI
- Filing08/16/01
- Publication08/27/02
- Examination
- Allowance11/23/10
- Grant08/09/11
- Expired09/08/21
The letters patent expired on 09/08/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/08/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Sumitomo Chemical Company, Limited
JP
Inventors
T. S. (pessoa física)
SA
Y. M. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
250384/2000 · 08/21/2000
Abstract
"PROCESSO PARA REMOVER NÉVOA DE ÁCIDO SULFÚRICO E APARELHO PARA REMOVER O MESMO". A presente invenção refere-se a um processo para a remoção de névoa de ácido sulfúrico que compreende borbulhamento de um gás contendo névoa de ácido sulfúrico em uma solução absorvente através de um difusor de gás tendo poros com um diâmetro de poro médio de cerca de 1.000 m ou menos. Este processo permite uma remoção símples e altamente eficaz de névoa de ácido sulfúrico.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
08/09/2011
RPI 2118
Deferimento
#9.1
11/23/2010
RPI 2081
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
01/26/2010
RPI 2038
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
07/07/2009
RPI 2009
Indeferimento anulado
#9.2.2
Referente a RPI 2004 de 02/06/2009.
06/09/2009
RPI 2005
Indeferimento
#9.2
Indeferimento do presente pedido de patente como invenção, de acordo com o art. 8º da LEI Nº 9.279, DE 14 DE MAIO DE 1996.
06/02/2009
RPI 2004
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
12/02/2008
RPI 1978
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/27/2002
RPI 1651
Pedido de patente depositado
#2.1
01/02/2002
RPI 1617
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