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Official data from INPI

MÉTODO DE TRATAMENTO DE LÍQUIDO DE REJEITO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI0102595

Type

Invention Patent

Filing

06/28/2001

Publication

04/30/2002

Progress at the INPI

  1. Filing06/28/01
  2. Publication04/30/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/02/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Nippon Shokubai CO., LTD.

JP

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Inventors

K. O. (pessoa física)

JP

K. W. (pessoa física)

JP

T. N. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2000-198230 · 06/30/2000

Abstract

"MÉTODO DE TRATAMENTO DE LÍQUIDO DE REJEITO". É mostrado um método de remoção de metais pesados contidos em um gás de exaustão gerado pela queima de um líquido de rejeito, que contém os metais pesados descarregados em um processo de produção de compostos orgânicos. O método inclui as etapas, na ordem, de: (a) uma etapa de combustão de queima do líquido de rejeito, para a produção de um gás de exaustão; (b) uma etapa de contato gás-líquido de colocar um líquido contendo um composto alcalino em contato com o gás de exaustão, para a coleta dos metais pesados no líquido e (c) uma etapa de coagulação de adição de um coagulante aos sedimentos, para a coagulação dos metais pesados nos sedimentos, para a remoção dos metais pesados. De acordo com este método, os metais pesados contidos no gás de exaustão podem ser eficientemente separados e removidos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

02/02/2010

RPI 2039

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/14/2009

RPI 2010

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/30/2002

RPI 1634

Pedido de patente depositado

#2.1

08/14/2001

RPI 1597

Patent monitoring

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