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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO REVELADORA E MATERIAL DE GRAVAÇÃO SENSÍVEL A CALOR

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0101161

Type

Invention Patent

Filing

03/27/2001

Publication

01/22/2002

Progress at the INPI

  1. Filing03/27/01
  2. Publication01/22/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/03/2009. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Mitsui Chemicals, Inc.

JP

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Inventors

J. T. (pessoa física)

JP

M. W. (pessoa física)

JP

M. F. (pessoa física)

JP

T. N. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2000-085665 · 03/27/2000

Abstract

"COMPOSIÇÃO REVELADORA E MATERIAL DE GRAVAÇÃO SENSÍVEL A CALOR". A invenção é uma composição reveladora nova que compreende um ou mais derivado de fenol de estrutura de sulfonamida representada pela fórmula (1) e um ou mais constituintes selecionados de um composto de metal polivalente, antioxidante e agente redutor e provê dispersão tendo excelente estabilidade de preservação em atomização em água. O material de gravação sensível a calor compreendendo a composição reveladora tem elevada densidade de cor em imagem revelada e também é excelente em grau de brancura antes da gravação. em que X~ 1~ é um átomo de halogênio ou hidrogênio, um grupo de alquila, alcoxi ou hidroxila, Z~ 1~ é um átomo de hidrogênio ou grupo de alquila, e R~ 1~ é um grupo de alquila ou arila não substituído ou substituído.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho publicado na RPI 1962 de 12/08/2008.

03/03/2009

RPI 1991

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª, 6ª e 7ª anuidades.

08/12/2008

RPI 1962

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/22/2002

RPI 1620

Pedido de patente depositado

#2.1

04/24/2001

RPI 1581

Patent monitoring

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