Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 07/08/2022
08/30/2022
RPI 2695
Application data
Number
PI0100214Type
Filing
Publication
The letters patent expired on 08/30/2022: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/30/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Ineos Phenol GmbH & Co. KG
DE
Phenolchemie GMBH & CO. KG
DE
Inventors
H. L. (pessoa física)
DE
M. W. (pessoa física)
DE
O. S. (pessoa física)
BE
R. S. (pessoa física)
DE
U. T. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
100 21 482.7 · 05/03/2000
Abstract
Patente de Invenção: "PROCESSO PARA O PÓS-TRATAMENTO TÉRMICO DE PRODUTO DE CLIVAGEM A PARTIR DA CLIVAGEM CATALISADA POR ÁCIDO DE HIDROPERÓXIDO DE CUMILA". A presente invenção reivindica um processo para o pós-tratamento térmico de produto de clivagem a partir da clivagem catalisada por ácido de hidroperóxido de cumila em fenol e acetona, sendo que se aquece o produto de clivagem a ser clivado termicamente. O processo de acordo com a invenção é caracterizado pelo fato de que o produto de clivagem é aquecido pelo fato de que, no produto de clivagem, decorre uma reação exotérmica. De preferência, a reação exotérmica, que decorre no produto de clivagem, é a clivagem de hidroperóxido de cumila. Em comparação aos processos tradicionais, nos quais se utiliza, para o aquecimento, vapor ou outro fluido térmico, pelo processo de acordo com a invenção, por um lado, consome-se consideravelmente menos energia, uma vez que menos ou nenhum vapor tem que ser utilizado, por outro lado, são o mais amplamente possível evitados problemas, que pode ser originados por deposição ("fouling") em trocadores de calor.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 07/08/2022
08/30/2022
RPI 2695
#16.1
08/07/2012
RPI 2170
#9.1
11/29/2011
RPI 2134
#25.4
Nome alterado de: Phenolchemie GmbH & Co. KG
11/22/2011
RPI 2133
#6.1
05/03/2011
RPI 2104
#3.1
01/02/2002
RPI 1617
#2.1
02/28/2001
RPI 1573
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