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Official data from INPI

PROCESSO DE ADSORÇÃO COM OSCILAÇÃO DE PRESSÃO (PSA) PARA REMOÇÃO DE UM GÁS PREFERIDO DE UMA MISTURA GASOSA.

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0100017

Type

Invention Patent

Filing

01/05/2001

Publication

08/28/2001

Progress at the INPI

  1. Filing01/05/01
  2. Publication08/28/01
  3. Examination
  4. Allowance07/21/09
  5. Grant02/09/10
  6. Expired03/23/21

The letters patent expired on 03/23/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/23/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Praxair Technology, Inc.

US

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Inventors

B. N. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

M. R. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

09/479643 · 01/07/2000

Abstract

"PROCESSO DE ADSORÇÃO COM OSCILAÇÃO DE PRESSÃO (PSA) PARA REMOÇÃO DE UM GÁS PREFERIDO DE UMA MISTURA GASOSA" A invenção refere-se a uma razão de pressão de ciclo quase constante juntamente com um balanço dos efluentes de vaso adsorvente em um processo de adsorção com oscilação de pressão. A invenção monitora taxa de pressão de ciclo e depois altera os fluxos e tempo de etapa de ciclo para manter seu valor, maximizando deste modo desempenho da instalação e evitando paradas desnecessárias. Manutenção de uma razão de pressão quase constante garante que a produção da instalação está otimizada e que o consumo de energia está minimizado. O balanço dos efluentes do vaso adsorvente, usando as correspondentes purezas residuais, é empregado para adicionalmente aumentar a produção da instalação.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

PATENTE EXTINTA EM 05.01.2021

03/23/2021

RPI 2620

Concessão da patente

#16.1

02/09/2010

RPI 2040

Deferimento

#9.1

07/21/2009

RPI 2011

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/02/2008

RPI 1978

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/28/2001

RPI 1599

Pedido de patente depositado

#2.1

01/30/2001

RPI 1569

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