Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/17/2004
RPI 1754
Application data
Number
PI0010053Type
Filing
Publication
PCT
US2000011736 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/28/2000 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
S. C. (pessoa física)
US
Inventors
G. H. (pessoa física)
US
W. S. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/131,461 · 04/28/1999
Abstract
"AMBIENTE DE ESCOAMENTO DE AR LIMPO AJUSTÁVEL". Recintos fechados tendo ambientes de escoamento de gás limpo ajustáveis e processos de tecnologia de distribuição diferencial de pressão em recintos fechados. Especificamente, recintos fechados de escoamento de gás limpo, que fornecem o isolamento de materiais de contaminação por microparticulados aerotransportados. Uma concretização da invenção utiliza um ambiente de escoamento de gás limpo, selecionável, modular, de tamanho pequeno, para o manejo e o isolamento de materiais. O ambiente pode ser um ambiente de classe de sala limpa por fornecimento de gás filtrado a partir de um gerador de gás (12) através de um filtro de gás (13) para um espaço de escoamento de gás filtrado (20). Uma concretização da invenção fornece uma primeira câmara de repartição de ar (23) e uma segunda câmara de repartição de ar (26), de modo que tanto o escoamento de gás filtrado horizontal quanto o escoamento de gás filtrado vertical podem ser usados separadamente ou em combinação dentro do mesmo espaço de escoamento de gás filtrado (20).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
08/17/2004
RPI 1754
#11.1
12/23/2003
RPI 1720
#1.3
07/02/2002
RPI 1643
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