Carta-patente expirada
#21.1
PATENTE EXTINTA EM 30.06.2020
02/23/2021
RPI 2616
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Official data from INPI
TIRA LITOGRÁFICA E MÉTODO PARA SUA FABRICAÇÃO.
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0002955Type
Invention Patent
Filing
06/30/2000
Publication
04/03/2001
Progress at the INPI
- Filing06/30/00
- Publication04/03/01
- Examination
- Allowance09/30/08
- Grant03/10/09
- Expired02/23/21
The letters patent expired on 02/23/2021: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/23/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Hydro Aluminium Deutschland GmbH
DE
VAW Aluminium AG
DE
Inventors
D. G. (pessoa física)
DE
D. K. (pessoa física)
DE
W. A. (pessoa física)
DE
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
199 30 720.2 · 07/02/1999
DE
199 56 692.5 · 11/25/1999
Abstract
Patente de Invenção: "TIRA LITOGRÁFICA E MÉTODO PARA SUA FABRICAÇÃO" . Uma tira litográfica para uso em chapas de impressão offset é descrita tendo uma composição de 0,05 - 0,25% Si, 0,30 - 0,40% Fe, 0,10 - 0,30% Mg, máx 0,05% Mn, e máx 0,04% Cu. A tira é produzida de um lingote lingotado continuamente com a composição acima até uma espessura de até 2-7 mm. A razão de resistência residual da tira laminada a quente é RR = 10-20. A laminação à frio é executada com ou sem recozimento intermediário, onde o grau de redução de laminação após o recozimento intermediário é > 60%. O outro processamento até a aspereza eletroquímica ocorre com a microestrutura ajustada no processo de laminação a < 100°C. A tira litográfica é caracterizada por uma alta estabilidade térmica, um bom comportamento de aspereza nos processos eletroquímicos, e uma alta resistência à fadiga de flexão invertida perpendicular à direção de laminação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Alteração de nome deferida
#25.4
Alterado de: VAW Aluminium AG
02/01/2011
RPI 2091
Alteração de sede deferida
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020090049297/RJ de 22/05/2009.
02/01/2011
RPI 2091
Concessão da patente
#16.1
03/10/2009
RPI 1992
Deferimento
#9.1
09/30/2008
RPI 1969
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
01/29/2008
RPI 1934
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
06/05/2007
RPI 1900
Publicação do pedido de patente
#3.1
04/03/2001
RPI 1578
Pedido de patente depositado
#2.1
11/28/2000
RPI 1560
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