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Official data from INPI

PROCESSO DE HIDROGENAÇÃO CONTÍNUA DE DINITRILA PARA PRODUZIR PELO MENOS UMA AMINONITRILA CORRESPONDENTE

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0002573

Type

Invention Patent

Filing

06/02/2000

Publication

02/05/2002

Progress at the INPI

  1. Filing06/02/00
  2. Publication02/05/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

R. I. (pessoa física)

FR

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Inventors

D. R. (pessoa física)

FR

L. S. (pessoa física)

FR

P. L. (pessoa física)

FR

V. B. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"PROCESSO DE HIDROGENAÇÃO CONTÍNUA DE DINITRILA PARA PRODUZIR PELO MENOS UMA AMINONITRILA CORRESPONDENTE". A presente invenção trata de um processo de hidrogenação de nitrilas alifáticas pelo menos em parte em aminonítrilas correspondentes. Ela consiste mais precisamente em um processo contínuo de hidrogenação de, dinitrila pelo menos em parte na aminonitrila correspondente em presença de um catalisador de hidrogenação não dissolvido no meio de reação, caracterizado pelo fato de que ele é empregado em uma aparelhagem comportando meios contínuos de separação do hidrogenado e do catalisador em uma zona onde a transferências gás-líquido é limitada ou nula, a dita separação e a reciclagem d catalisador sendo efetuadas em lapso de tempo I inferior ou igual a 30 minutos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1913 de 04/09/2007.

12/13/2011

RPI 2136

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª, 6ª e 7ª anuidades.

09/04/2007

RPI 1913

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/05/2002

RPI 1622

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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