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Official data from INPI

MÉTODO DE PREPARAÇÃO DE SUBSTRATOS TÊXTEIS E SUBSTRATO TÊXTIL ASSIM OBTIDO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0000408

Type

Invention Patent

Filing

01/21/2000

Publication

10/16/2001

Progress at the INPI

  1. Filing01/21/00
  2. Publication10/16/01
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Eybl International AG

AT

Inventors

G. H. (pessoa física)

AT

W. S. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

100 00 805.4 · 01/11/2000

DE

199 03 080.4 · 01/27/1999

Abstract

"MÉTODO DE PREPARAÇÃO DE SUBSTRATOS TÊXTEIS E SUBSTRATO TÊXTIL ASSIM OBTIDO", que compreende um método para a preparação de um substrato têxtil em um reator de plasma de baixapressão e o produto final obtido pelo mesmo. Para a execução são gerados movimentos turbulentos das partículas do material de matriz dentro do reator de plasma de baixa pressão, as quais agem em todas as direções sobre o substrato têxtil. Com isto é obtido um envolvimento por todos os lados de cada fibra do substrato sem que haja transformação química do mesmo. Desta forma poderão ser acrescentadas às características conhecidas do material têxtil outras características/funções, como p.ex. a tingibilidade, a resistência ao esfregamento, a resistência a raios ultravioletas e muito mais.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1913 de 04/09/2007.

12/13/2011

RPI 2136

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5º, 6º e 7º anuidades.

09/04/2007

RPI 1913

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/16/2001

RPI 1606

Pedido de patente depositado

#2.1

11/28/2000

RPI 1560

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