The patent was granted on 08/09/2016 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 08/06/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
ABTLUS - ASSOCIAÇÃO BRASILEIRA DE TECNOLOGIA DE LUZ SÍNCROTRON
SP, BR
C. M. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
M. S. (pessoa física)
BR
R. N. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
JANELA DESMONTÁVEL PARA ULTRA-ALTO VÁCUO. Nova configuração aplicada em janela desmontável para sistemas de ultra-alto vácuo. A qual tem maior gama de aplicações em equipamentos de vácuo, assim como, permite a reutilização da mesma quando da necessidade de troca do vidro ou qualquer outro componente e também permite a colocação de mesma em vários modelos de câmaras de sistemas de vácuo; a qual permite a criação de modelos janelas desmontáveis, com a opção de um suporte podendo ser usado como substituto com outras funções sistemas de ultra-alto vácuo, ou alto vácuo, ou vácuo simples, como passantes de liquidos, passantes elétricos e outros e/ou todas as aplicações em que a diferença de pressão entre as faces for <1 bar (em qualquer direção) e que precisem de estanqueidade até a faixa de 1 x 10^ 10^ mbar l/seg.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2519 de 16-04-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
08/06/2019
RPI 2535
#21.6
Referente à 12ª anuidade.
04/16/2019
RPI 2519
#16.1
08/09/2016
RPI 2379
#9.1
06/28/2016
RPI 2373
#6.1
01/19/2016
RPI 2350
#25.4
12/22/2015
RPI 2346
#4.3
05/02/2012
RPI 2156
#11.1
04/03/2012
RPI 2152
#3.1
02/03/2009
RPI 1987
#2.1
09/18/2007
RPI 1915
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