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Official data from INPI

DISPOSIÇÃO CONSTRUTIVA INTRODUZIDA EM BISTURI CIRCULAR

ArquivadaUtility Model

Application data

Number

MU8302031

Type

Utility Model

Filing

09/18/2003

Publication

05/03/2005

Progress at the INPI

  1. Filing09/18/03
  2. Publication05/03/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/21/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Kolplast C I LTDA

SP, BR

Inventors

B. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÃO CONSTRUTIVA INTRODUZIDA EM BISTURI CIRCULAR". Compreendida por uma pluralidade de facetas distribuídas perifericamente ao longo de seu corpo, o qual ocupa aproximadamente metade de seu tamanho normal; ditas facetas são dispostas em hexágonos regulares, porém não limitativo, podendo se apresentar com mais ou menos lados; ditos hexágonos, ao longo do corpo, são posicionados uns sobre os outros, de maneira que um em relação ao outro tenha uma defasagem de aproximadamente (rotação) de 30 ; superiormente, dito bisturi é provido de um compartimento cilíndrico vazado para alojamento da lâmina cilíndrica circular; ainda na porção superior, dito bisturi é composto de uma tampa de proteção, fixada por interferência, externamente ao compartimento superior da lâmina; em sua porção posterior, dito bisturi é composto por uma região circular vazada escariada.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

01/21/2014

RPI 2246

15.22.1

Negada a solicitação de devolução de prazo. O parecer poderá ser visualizado através do e-Parecer, no site do INPI.

09/24/2013

RPI 2229

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/12/2011

RPI 2114

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/03/2005

RPI 1791

Pedido de patente depositado

#2.1

02/03/2004

RPI 1726

Patent monitoring

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