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Official data from INPI

DISPOSIÇÕES CONSTRUTIVAS INTRODUZIDAS EM INVÓLUCRO DE ESPOLETA DE RETARDO DE CORDEL BIDIRECIONAL

Arquivada/ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU8301846

Type

Utility Model

Filing

09/19/2003

Publication

04/26/2005

Progress at the INPI

  1. Filing09/19/03
  2. Publication04/26/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 05/25/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Britanite S/A - Indústrias Químicas

PR, BR

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Inventors

L. S. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"DISPOSIÇÕES CONSTRUTIVAS INTRODUZIDAS EM INVÓLUCRO DE ESPOLETA DE RETARDO DE CORDEL BIDIRECIONAL". Refere-se a Patente de Modelo de Utilidade de disposições construtivas introduzidas em invólucro de espoleta de retardo de cordel detonante bidirecional, que proporcionam melhoria funcional e otimização na sua fabricação com menor número de componentes, através de construtividade mais simples com divisor de transmissão de chama (2-B) incorporado no interior do invólucro, dispensando a utilização do conector de transmissão de chama e do estojo externo, trazendo uma solução inovadora com vantagens de menor custo de material, menor custo de fabricação pois utiliza menos mão de obra, maior segurança na montagem do retardo pois utiliza menos passos de operação e eliminação de poluente ambiental pela não utilização de chumbo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 da RPI 1995 de 31/03/2009.

05/25/2010

RPI 2055

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5ª anuidade.

03/31/2009

RPI 1995

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/26/2005

RPI 1790

Pedido de patente depositado

#2.1

02/03/2004

RPI 1726

Patent monitoring

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