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Official data from INPI

APERFEIÇOAMENTO EM NÚCLEO DE VEDAÇÃO RECAMBIÁVEL

ExtintaUtility Model

Application data

Number

MU7902604

Type

Utility Model

Filing

11/18/1999

Publication

06/26/2001

Progress at the INPI

  1. Filing11/18/99
  2. Publication06/26/01
  3. Examination
  4. Allowance04/12/05
  5. Grant08/02/05
  6. Terminated03/23/21

The patent was granted on 08/02/2005 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/23/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Metalúrgica Meber Ltda

RS, BR

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Inventors

C. B. (pessoa física)

BR

M. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"APERFEIÇOAMENTO EM NÚCLEO DE VEDAÇÃO RECAMBIÁVEL" para ser utilizado em torneiras e registros de pressão para controle de fluidos (gases e líquidos em geral), onde as roscas da haste e do pistão ficam alojadas em uma câmara fechada, formada pelas paredes internas da bucha e externa do pistão, juntamente com anéis O'ring.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2605 de 08-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/23/2021

RPI 2620

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente às 7ª, 8ª, 9ª, 10ª, 11ª e 12ª anuidades.

12/08/2020

RPI 2605

24.6

Anulada a publicação código 24.8 na RPI nº 2256 de 01/04/2014 por ter sido indevida.

11/24/2020

RPI 2603

24.8

04/01/2014

RPI 2256

24.3

referente a 7ª,8ª,9ª,10ª,11ª e 12ª anuidades

12/06/2011

RPI 2135

Concessão da patente

#16.1

08/02/2005

RPI 1804

Deferimento

#9.1

04/12/2005

RPI 1788

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/26/2001

RPI 1590

Pedido de patente depositado

#2.1

11/21/2000

RPI 1559

Patent monitoring

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