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MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO DESIDROXILADO, PROCESSO E INSTALAÇÃO PARA TRATAMENTO DE DESIDROXILAÇÃO DE SILICATO DE ALUMÍNIO E PROCESSO PARA APERFEIÇOAR A CINÉTICA DA REAÇÃO POZOLÂNICA DE MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO

Arquivada/ExtintaCertificado de Adição

Application data

Number

C10207331

Type

Certificado de Adição

Filing

11/06/2003

Publication

10/19/2004

Progress at the INPI

  1. Filing11/06/03
  2. Publication10/19/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/23/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Saint-Gobain Materiaux de Construction SAS

FR

Inventors

G. C. (pessoa física)

FR

Technical data

Priority claims

FR

01/03094 · 02/20/2001

Abstract

"MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO DESIDROXILADO, PROCESSO E INSTALAÇÃO PARA TRATAMENTO DE DESIDROXILAÇÃO DE SILICATO DE ALUMÍNIO E PROCESSO PARA APERFEIÇOAR A CINÉTICA DA REAÇÃO POZOLÂNICA DE MATERIAL À BASE DE SILICATO DE ALUMÍNIO". A invenção refere-se a um material à base de silicato de alumínio desidroxilado apresentando uma reatividade pozolânica mais rápida, caracterizada pelo fato de que a quantidade de hidróxido de cálcio reagido, medida pela reatividade pozolânica (RP) após uma cura de 3 dias, é de pelo menos 50 %. Em um processo e uma instalação para tratamento de desidroxilação de silicato de alumínio, partículas contendo silicato de alumínio são expostas a uma temperatura de pelo menos 500 C. As partículas encontram-se na forma de um pó seco, e o pó seco (26) é opcionalmente transportado em um fluxo de gás (30) a uma temperatura abrangendo de 600 a 850 C, durante um período que é suficiente para se atingir o grau desejado de desidroxilação. O pó pode ser obtido de uma pasta de base hidratada através da redução da pasta de base a fragmentos (23), e da desagregação dos fragmentos (23) da pasta de base por meio de ação mecânica (em 3) na presença de um gás quente (24) a uma temperatura abrangendo de 500 C a 800 C, de modo a formar o pó seco (26).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2155 de 24/04/2012.

10/23/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 8ª, 9ª e 10ª anuidades.

04/24/2012

RPI 2155

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/19/2004

RPI 1763

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