Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 03/12/2018, observadas as condições legais
03/18/2025
RPI 2828
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Official data from INPI
MÉTODO E DISPOSITIVO PARA OBTER UM PADRÃO ELEVADO EM UM SUBSTRATO
ConcedidaInvention PatentPCT · ES2018070773
Application data
Number
112021010693Type
Invention Patent
Filing
12/03/2018
Publication
08/24/2021
PCT
ES2018070773 Progress at the INPI
- Filing12/03/18
- Publication08/24/21
- Examination
- Allowance01/07/25
- Grant03/18/25
- In force12/03/38
The patent was granted on 03/18/2025 and is in force until 12/03/2038. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:12/03/2038
Latest action published by the INPI: 03/18/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
J. L. (pessoa física)
ES
Inventors
J. L. (pessoa física)
ES
Technical data
Abstract
MÉTODO E DISPOSITIVO PARA OBTER UM PADRÃO ELEVADO EM UM SUBSTRATO.A invenção se refere a um método para obter um padrão elevado em um substrato (1) e ao dispositivo usado, em que o método compreende as seguintes etapas de mover um substrato (1) tendo uma face (1'); fornecer um filme (8) com uma primeira face (8.1); projetar na primeira face (8.1) um produto de padrão elevado (9') usando tecnologia de impressão digital de modo a gerar um padrão positivo elevado na primeira face (8.1); fixar o padrão positivo elevado no filme (8); aplicar um produto de cobertura (4); obter um padrão negativo elevado no produto de cobertura (4) por contato com o padrão positivo elevado; e fixar o padrão negativo elevado na face (1') do substrato (1).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
01/07/2025
RPI 2818
Parecer de pré-exame
#6.23
09/20/2022
RPI 2698
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
08/24/2021
RPI 2642
Alteração de dados cadastrais
#1.1
06/15/2021
RPI 2632
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