Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 24/03/2022, observadas as condições legais
04/15/2025
RPI 2832
Application data
Number
102022005635Type
Filing
Publication
The patent was granted on 04/15/2025 and is in force until 03/24/2042. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:03/24/2042
Latest action published by the INPI: 04/15/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
J. L. (pessoa física)
ES
Inventors
J. L. (pessoa física)
ES
Priority claims
EP
21382250.5 · 03/26/2021
Abstract
MÉTODO E SISTEMA PARA PRODUZIR RELEVOS EM SUBSTRATOS. A invenção refere-se a um método e sistema para produzir relevos em substratos, o método compreendendo a aplicação por impressão digital a jato de tinta (4) de gotas de um material de relevo (3) que é depositado em áreas localizadas da superfície de um substrato (1) para obter uma superfície de relevo com um relevo determinado pelo material de relevo (3) depositado, uma folha de revestimento (2) sendo incorporada sobre o material de relevo (3) depositado, que se ajusta à referida superfície de relevo, a folha de revestimento (2) sendo fixa por colagem por meio de uma cola (5) que é aplicada em conjunto ou em combinação com o material de relevo (3).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 24/03/2022, observadas as condições legais
04/15/2025
RPI 2832
#9.1
02/11/2025
RPI 2823
#6.23
03/05/2024
RPI 2774
#3.1
09/27/2022
RPI 2699
#2.1
04/26/2022
RPI 2677
#2.10
Número de Protocolo '870220025499' em 24/03/2022 16:55 (WB)
04/05/2022
RPI 2674
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.