(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

DISPOSITIVO DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAL DE MÚLTIPLAS CAMADAS E MÉTODO DE FABRICAÇÃO RESPECTIVO

Em AnáliseInvention PatentPCT · CN2018097432

Application data

Number

112020023959

Type

Invention Patent

Filing

07/27/2018

Publication

02/23/2021

PCT

CN2018097432

Progress at the INPI

Under appeal
  1. Filing07/27/18
  2. Publication02/23/21
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application is under appeal: the INPI has yet to review the decision.

Leave your contact and we will alert you

We track INPI publications and let you know as soon as this case moves.

We use your details only for this alert.

Latest action published by the INPI: 04/30/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD.

CN

See this company's full portfolio

Inventors

J. L. (pessoa física)

CN

L. X. (pessoa física)

CN

Q. T. (pessoa física)

CN

S. L. (pessoa física)

CN

Y. H. (pessoa física)

CN

Y. Z. (pessoa física)

CN

Z. T. (pessoa física)

CN

Z. L. (pessoa física)

CN

Z. L. (pessoa física)

CN

Z. H. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Abstract

DISPOSITIVO DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAL DE MÚLTIPLAS CAMADAS E MÉTODO DE FABRICAÇÃO RESPECTIVO.A presente invenção refere-se a métodos e estruturas de um dispositivo de memória tridimensional. Em um exemplo, o dispositivo de memória inclui um substrato e uma estrutura em escada de múltiplas camadas. A estrutura em escada de múltiplas camadas pode incluir uma pluralidade de estruturas de escada empilhada sobre o substrato. Cada uma da pluralidade de estruturas de escada pode incluir uma pluralidade de camadas condutoras entre cada uma das camadas isolantes. O dispositivo de memória pode ainda incluir uma estrutura de enchimento sobre a estrutura em escada de múltiplas camadas, um canal semicondutor se estendendo através da estrutura em escada de múltiplas camadas, e um pilar de suporte se estendendo através a estrutura em escada de múltiplas camadas e a estrutura de enchimento. O canal semicondutor pode incluir superfícies de parede lateral não alinhadas, e o pilar de suporte pode incluir superfícies de parede lateral alinhadas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870240034745 - 24/4/2024

04/30/2024

RPI 2782

Indeferimento

#9.2

03/05/2024

RPI 2774

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

09/26/2023

RPI 2751

Parecer de pré-exame

#6.23

05/23/2023

RPI 2733

Adição na publicação

#15.35

12/14/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

02/23/2021

RPI 2616

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/08/2020

RPI 2605

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.