Adição na publicação
#15.35
10/13/2021
RPI 2649
Application data
Number
112019012601Type
Filing
Publication
PCT
EP2017081992 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 12/08/2017 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
L. A. (pessoa física)
DE
Inventors
D. R. (pessoa física)
GB
R. A. (pessoa física)
GB
IPC Classification
Priority claims
GB
1622194.7 · 12/23/2016
Abstract
A presente invenção refere-se à um dispositivo de monitoramento de cilindro de gás (34) para uso com uma válvula (18) a fim de controlar o fluxo de gás de um cilindro (14). A válvula (18) tem um corpo de válvula (20), e o dispositivo compreende um sensor de temperatura ambiente (38) para medir a temperatura ambiente (TA), um sensor de temperatura de corpo de válvula (36) para medir a temperatura (TV) do corpo de válvula, e um processador (42). O processador (42) opera para processar uma temperatura compensada (TC), calculada a partir da diferença entre a temperatura (TV) medida do corpo de válvula e a temperatura ambiente (TA) ao longo do tempo (t). Uma taxa de fluxo (TF) do fluxo de gás do cilindro e/ou a pressão (P) no gás é determinada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
10/13/2021
RPI 2649
#11.1.1
06/08/2021
RPI 2631
#11.1
03/23/2021
RPI 2620
#1.3
11/26/2019
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06/25/2019
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