SUBSTRATO DE VIDRO ANTIRREFLETIVO E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção se refere a um método para a fabricação de substratos de vidro antirrefletivos por implantação iônica, compreendendo a seleção de uma fonte de gás de N2 ou O2, a ionização da fonte de gás de modo a formar uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de N ou O, formando um feixe de íons de carga simples e de carga múltipla de N ou O, através de aceleração com uma voltagem de aceleração A compreendida entre 13 kV e 40 kV e definindo a dosagem iônica para um valor compreendido entre 5,56 x 1014 x A/kV + 4,78 x 1016 íons/cm² e -2,22 x 1016 x A/kV + 1,09 x 1018 íons/cm². A invenção se refere ainda a substratos de vidro antirrefletivos compreendendo uma área tratada por implantação iônica com uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de acordo com esse método.