SUBSTRATO DE VIDRO ANTIRREFLETIVO RESISTENTE A RISCOS E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção se refere a um método para a fabricação de substratos de vidro antirrefletivos resistentes a riscos por implantação iônica, compreendendo a ionização de uma fonte de gás de N2, de modo a formar uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de N, formando um feixe de íons de carga simples e de carga múltipla de N, através de aceleração com uma voltagem de aceleração compreendida entre 20 kV e 30 kV e uma dosagem iônica entre 5 x 1016 íons/cm2 e 1017íons/cm2. A invenção se refere ainda a substratos de vidro antirrefletivos resistentes a riscos compreendendo uma área tratada por implantação iônica com uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de acordo com esse método.