SUBSTRATO DE VIDRO ANTIRREFLETIVO TERMICAMENTE TRATÁVEL E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

A invenção se refere a um método para a fabricação de substratos de vidro antirrefletivos termicamente tratáveis por implantação iônica, compreendendo a seleção de uma fonte de gás de N2, O2 ou Ar, ionizando a fonte de gás de modo a formar uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de Ar, N ou O, formando um feixe de íons de carga simples e carga múltipla de Ar, N ou O através de aceleração com uma voltagem de aceleração compreendida entre 15 kV e 60 kV e definindo a dosagem iônica para um valor compreendido entre 7,5 x 1016 e 7,5 x 1017 íons/cm2. A invenção se refere ainda a substratos de vidro antirrefletivos termicamente tratáveis e termicamente tratados, compreendendo uma área tratada por implantação iônica com uma mistura de íons de carga simples e de carga múltipla de acordo com esse método.