Alteração de sede deferida
#25.7
06/13/2023
RPI 2736
Application data
Number
112015004624Type
Filing
Publication
PCT
FR2013052035 The patent was granted on 01/12/2021 and is in force until 09/04/2033. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:09/04/2033
Latest action published by the INPI: 06/13/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
H.E.F.
FR
H. F. (pessoa física)
FR
Inventors
B. S. (pessoa física)
FR
C. H. (pessoa física)
FR
P. M. (pessoa física)
FR
IPC Classification
Priority claims
FR
1258495 · 09/11/2012
Abstract
DISPOSITIVO PARA GERAR UM PLASMA APRESENTANDO UMA GRANDE EXTENSÃO AO LONGO DE UM EIXO POR RESSONÃNCIA CICLOTRÃNICA DE ELÃTRONS RCE A PARTIR DE UM MEIO GASOSO. O dispositivo comporta pelo menos duas guias de ondas coaxiais (4) constituÃdas cada uma por um condutor central (1) e um condutor exterior (2) para conduzir micro-ondas para dentro de uma câmara de tratamento, caracterizado pelo fato de que pelo menos as duas guias de injeção de ondas eletromagnéticas (4) são combinadas com um circuito magnético (21-22) alongado em uma direção, o referido circuito magnético envolvendo as guias de ondas (4), criando um campo magnético capaz de realizar uma condição de RCE na proximidade das referidas guias de ondas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#25.7
06/13/2023
RPI 2736
#25.4
06/06/2023
RPI 2735
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 04/09/2013, observadas as condições legais
01/12/2021
RPI 2610
#9.1
11/17/2020
RPI 2602
#6.21
03/03/2020
RPI 2565
#6.6.1
11/21/2018
RPI 2498
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
07/04/2017
RPI 2426
#1.1
08/02/2016
RPI 2378
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