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Official data from INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA ELABORAÇÃO DE VAPOR DE ÁGUA DE ALTA TEMPERATURA RICO EM PARTÍCULAS ATIVAS USANDO PLASMA

ExtintaInvention PatentPCT · CN2011078242

Application data

Number

112013016762

Type

Invention Patent

Filing

08/11/2011

Publication

10/11/2016

PCT

CN2011078242

Progress at the INPI

  1. Filing08/11/11
  2. Publication10/11/16
  3. Examination
  4. Allowance07/30/19
  5. Grant08/20/19
  6. Terminated10/05/21

The patent was granted on 08/20/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/05/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

WUHAN KAIDI ENGINEERING TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE CO., LTD.

CN

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Inventors

C. M. (pessoa física)

CN

C. Y. (pessoa física)

CN

L. H. (pessoa física)

CN

Z. Y. (pessoa física)

CN

Technical data

Priority claims

CN

201010617855.0 · 12/31/2010

Abstract

MÃTODO E DISPOSITIVO PARA ELABORAÃÃO DE VAPOR DE ÃGUA DE ALTA TEMPERATURA RICO EM PARTÃCULAS ATIVAS USANDO PLASMAà divulgado um método e um dispositivo para a preparação de vapor de água de alta temperatura enriquecido em partículas ativas utilizando plasma, compreendendo o dispositivo um gerador de plasma (1) e um gerador de vapor de alta temperatura (2), em que o meio de uma extremidade do vapor de alta temperatura do gerador (2) é fornecido com uma entrada de plasma de alta temperatura (4), em comunicação com uma saída (1 b) do gerador de plasma (1 ); o gerador de plasma (1) tem uma entrada (1 a) para os gases não-oxidantes; a entrada de plasma de alta temperatura (4) está rodeada por uma entrada anular de vapor (3d), em que a entrada anular de vapor (3d) tem lâminas de guia rotativas (7) montadas nele. O invólucro do gerador de vapor de alta temperatura (2) tem uma forma de aumento intensificado dasfases divididas em 1 - 4 fases, e um orifício estreito anular (3a, 3b, 3c) para a entrada do vapor é fornecido entre duas partes da caixa adjacente em cada fase, com o orifício estreito anular (3a, 3b, 3c), ligado a um dispositivo de alimentação de pressão de vapor (3). O método compreende os passos de: pulverização do vapor preparado e ionização do material de trabalho de plasma de alta temperatura no gerador de plasma (1) para o gerador de vapor de alta temperatura (2) por intermédio das respectivas entradas, misturando intensivamente o vapor de alta temperatura e a alta temperatura do plasma, e aquecendo e ativando o vapor de modo a formar o vapor com partículas ativas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2632 de 15-06-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

10/05/2021

RPI 2648

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 10ª anuidade.

06/15/2021

RPI 2632

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 11/08/2011, observadas as condições legais

08/20/2019

RPI 2537

Deferimento

#9.1

07/30/2019

RPI 2534

6.20

04/24/2019

RPI 2520

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

12/26/2018

RPI 2503

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/11/2016

RPI 2388

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/07/2014

RPI 2244

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