Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
02/23/2021
RPI 2616
Application data
Number
112016012218Type
Filing
Publication
PCT
CN2014090887 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/23/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
WUHAN KAIDI ENGINEERING TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE CO., LTD.
CN
Inventors
C. Y. (pessoa física)
CN
Z. L. (pessoa física)
CN
Z. Y. (pessoa física)
CN
IPC Classification
Priority claims
CN
201310628406.X · 11/29/2013
Abstract
RESUMOPROCESSO E SISTEMA PARA ACOPLAMENTO DE PIRÓLISE PRESSURIZADA DE BIOMASSASTrata-se de um processo que é fornecido para a pirólise pressurizada por acoplamento de biomassas, que pirolisa as biomassas com uso de micro-ondas acopladas aos plasmas e trata os resíduos de carbono após a pirólise com o uso de plasmas. O método tem uma alta eficiência e uma alta conversão de carbono. O gás sintético tem uma boa qualidade, e o volume do gás eficaz alcança acima de 90%. Além disso, é fornecido um forno de pirolisação para o processo de pirólise mencionado acima, que inclui um forno de pirólise (2), um sistema de alimentação, um separador de ciclone (4). A parte inferior do forno de pirolisação é dotada de múltiplas admissões de micro-ondas (12) e uma interface de tocha de plasma (13), e o fundo da mesma é dotado de um agrupamento de armazenamento de escória. Tanto as admissões de micro-ondas (12) quanto a interface de tocha de plasma (13) do forno de pirolisação são distribuídas em múltiplas camadas, sendo que cada camada é colocada em uma distância uniforme. A interface de tocha de plasma (13) é colocada abaixo das admissões de micro-ondas (12) e acima do nível do líquido no agrupamento de armazenamento de escória, e a direção de jato do plasma na interface de tocha de plasma (13) é na faixa de um campo de micro-ondas nas admissões de micro-ondas. Assim, o gás sintético resultante é livre de alcatrão, e o processo de purificação subsequente é simples, sem poluição ambiental.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
02/23/2021
RPI 2616
#6.1
11/03/2020
RPI 2600
#6.21
08/20/2019
RPI 2537
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
08/08/2017
RPI 2431
#1.1
06/14/2016
RPI 2371
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