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Official data from INPI

MATERIAL DE MATRIZ DE BASE DE ALUMÍNIO PARA ESTAMPADORA, MATRIZ DE BASE DE ALUMÍNIO PARA ESTAMPADORA E ESTAMPADORA

IndeferidaInvention PatentPCT · JP2010065613

Application data

Number

112012005203

Type

Invention Patent

Filing

09/10/2010

Publication

03/08/2016

PCT

JP2010065613

Progress at the INPI

  1. Filing09/10/10
  2. Publication03/08/16
  3. Examination
  4. Refused11/27/18
  5. Grant
  6. In force

The application was refused on 11/27/2018 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/27/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

M. C. (pessoa física)

JP

MITSUBISHI RAYON CO., LTD.

JP

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Inventors

H. K. (pessoa física)

JP

H. I. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

20090-210054 · 09/11/2009

Abstract

MATERIAL DE MATRIZ DE BASE DE ALUMÃNIO PARA ESTAMPADORA, MATRIZ DE BASE DE ALUMÃNIO PARA ESTAMPADORA E ESTAMPADORA.A presente invenção refere-se a um material de base de alumínio para uma estampadora tendo uma composição de componente que contém 0,5% em peso a 3,0% em peso de Mg, a quantidade total de outros elementos diferentes de Mg, incluindo as impurezas inevitáveis, é de 500 ppm ou menos, e o restante é constituído por AI, e uma estrutura forjada em que o tamanho médio de grão de cristal é 1.000 (Mi)m m ou menos e a proporção da área de superfície de partículas de segunda fase é de 0,10% ou menos. De acordo com o presente pedido, uma estampadora pode ser fornecida na qual, juntamente com o tamanho de grão de cristal do alumínio a ser refinado, a formação de partículas de segunda fase é inibida, as irregularidades de superfície espelhada atribuíveis ao polimento de superfície são reduzidas, e um padrão de relevo uniforme é formado por tratamento de oxidação anódica.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL

11/27/2018

RPI 2499

Indeferimento

#9.2

09/11/2018

RPI 2488

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

02/14/2018

RPI 2458

Alteração de sede deferida

#25.7

08/29/2017

RPI 2434

Alteração de nome deferida

#25.4

08/15/2017

RPI 2432

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/08/2016

RPI 2357

Alteração de dados cadastrais

#1.1

11/06/2012

RPI 2183

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