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Official data from INPI

MÉTODO PARA FABRICAR UMA PLURALIDADE DE ELEMENTOS EMISSORES DE LUZ, E, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ

ConcedidaInvention Patent

Application data

Number

102017027106

Type

Invention Patent

Filing

12/15/2017

Publication

07/17/2018

Progress at the INPI

  1. Filing12/15/17
  2. Publication07/17/18
  3. Examination
  4. Allowance11/07/23
  5. Grant12/12/23
  6. In force12/15/37

The patent was granted on 12/12/2023 and is in force until 12/15/2037. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:12/15/2037

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Latest action published by the INPI: 12/12/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

N. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

J. N. (pessoa física)

JP

K. N. (pessoa física)

JP

S. K. (pessoa física)

JP

Y. I. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2016-243899 · 12/16/2016

JP

2017-171833 · 09/07/2017

Abstract

MÉTODO PARA FABRICAR UMA PLURALIDADE DE ELEMENTOS EMISSORES DE LUZ, E, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ. Um método para fabricar uma pluralidade de elementos emissores de luz inclui: prover uma pastilha semicondutora compreendendo: um substrato, uma camada semicondutora de nitreto de lado n contendo uma impureza tipo n e localizada no substrato, e uma camada semicondutora de nitreto de lado p contendo uma impureza tipo p e localizada na camada semicondutora de nitreto de lado n; formar uma camada protetora em uma face superior da camada semicondutora de nitreto de lado p em regiões que incluem limites de áreas para se tornarem a pluralidade de elementos emissores de luz; reduzir uma resistência do semicondutor de nitreto de lado p em áreas onde nenhuma camada protetora foi formada recozendo a pastilha semicondutora; irradiar um feixe de laser no substrato de modo a formar regiões modificadas no substrato; e obter uma pluralidade de elementos emissores de luz dividindo a pastilha semicondutora na qual as regiões modificadas foram formadas no substrato.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 15/12/2017, observadas as condições legais

12/12/2023

RPI 2762

Deferimento

#9.1

11/07/2023

RPI 2757

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/11/2023

RPI 2740

Parecer de pré-exame

#6.23

02/07/2023

RPI 2718

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/17/2018

RPI 2480

Pedido de patente depositado

#2.1

04/10/2018

RPI 2466

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870170098225' em 15/12/2017 09:50 (WB)

01/02/2018

RPI 2452

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