Invention Patent GAIOLA DE FARADAY MODIFICADA E PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM AMBIENTE DE PLASMA de INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAÇÃO CIÊNCIA E TECNOLOGIA DO ESPIRITO SANTO — IPC B05B 5/00. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The patent was granted on 03/14/2023 and is in force until 11/09/2036. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:11/09/2036
Latest action published by the INPI: 03/14/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAÇÃO CIÊNCIA E TECNOLOGIA DO ESPIRITO SANTO
O presente dispositivo trata de um assessório para uso interno no reator de plasma como uma gaiola de faraday modificada e processo de deposição de filmes finos em ambientes plasmódicos, especialmente desenvolvida para a deposição de filmesfinos de diversos materiais metálicos ou não metálicos, objetivando atender estudo de desenvolvimento tecnológico de novas ligas com propriedades mecânicas, elétricas, físicas e químicas para diversas aplicações e outras pesquisas em tecnologias de superfícies. Dessa forma, ela é desenvolvida para obter uma grande variedade de deposições de filmes finos ou nanos filmes nas superfícies de diversos materiais, via reatores de plasma a vácuo. Diante disso, com a deposição de filmes finos nas superfícies dos objetos, poderá ocorrer elevação da resistência ao desgaste, a corrosão, propriedades elétricas e ópticas e ao embelezamento no caso de objetos de adorno, entre outras características.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 09/11/2016, observadas as condições legais
03/14/2023
RPI 2723
Deferimento
#9.1
01/10/2023
RPI 2714
Exigência preliminar (variante)
#6.22
09/06/2022
RPI 2696
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/29/2018
RPI 2473
Pedido de patente depositado
#2.1
12/20/2016
RPI 2398
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 870160066074 em 09/11/2016 02:00(WB).
