MÉTODO DE CONDUÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PCVD

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Abstract

MÉTODO DE CONDUÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PCVD E APARELHO DE CONDUÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PCVD A presente invenção refere-se a um aparelho de condução de um processo de deposição de PCVD, em que uma ou mais camadas de vidro dopado ou não dopado são revestidas sobre o lado interno de um tubo de substrato de vidro, em que o aparelho compreende um aplicador que possui uma parede interna e uma parede externa e uma guia de micro-ondas que se abre para o aplicador, em que o aplicador estende-se em volta de um eixo cilíndrico e que é equipado com uma passagem adjacente à parede interna, através da qual podem sair as micro-ondas fornecidas por meio da guia de micro-ondas, sobre esse eixo cilíndrico o tubo de substrato pode ser posicionado, enquanto o aplicador é completamente envolvido por uma fornalha que se estende sobre o mencionado eixo cilíndrico.