MÉTODO PARA REALIZAÇÃO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO POR PLASMA

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Priority claims

Abstract

A presente invenção se refere a um método para realização de um processo de deposição por plasma compreendendo: i) provimento de um tubo de substrato oco; ii) fornecimento de um fluxo de suprimento de gases formadores de vidro contendo dopante ao tubo de substrato da etapa i), em que o fluxo de suprimento compreende um fluxo de gás principal e um ou mais fluxos de gás secundários, preferivelmente dito fluxo de gás principal compreendendo os gases formadores de vidro e dito um ou mais fluxos de gás secundários compreendendo principalmente precursores de dopante(s); iii) indução de um plasma por meio de radiação eletromagnética em pelo menos parte do tubo de substrato da etapa ii) para criar uma zona de reação na qual a deposição de uma ou mais camadas de vidro na superfície interna do tubo de substrato ocorre; iv) movimento da zona de reação para trás e para frente na direção longitudinal sobre o tubo de substrato entre um ponto de reversão localizado próximo ao lado de suprimento e um ponto de reversão localizado próximo do lado de descarga do dito tubo de substrato; cada movimento para trás e para frente sendo chamado de golpe; o fluxo de pelo menos um fluxo de gás secundário sendo interrompido uma ou várias vezes durante a etapa iii); cada dita interrupção apresentando um ponto inicial e um ponto final como uma função da posição axial do plasma ao longo do comprimento do tubo de substrato; dito ponto inicial e dito ponto final de cada dita interrupção posicionados dentro do mesmo golpe.