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Official data from INPI

MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DE UM PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA INTERNO

ConcedidaInvention Patent

Application data

Number

102014015871

Type

Invention Patent

Filing

06/26/2014

Publication

11/17/2015

Progress at the INPI

  1. Filing06/26/14
  2. Publication11/17/15
  3. Examination
  4. Allowance05/11/21
  5. Grant06/22/21
  6. In force06/26/34

The patent was granted on 06/22/2021 and is in force until 06/26/2034. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:06/26/2034

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Latest action published by the INPI: 06/22/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

DRAKA COMTEQ BV

NL

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Inventors

G. K. (pessoa física)

NL

I. M. (pessoa física)

NL

J. H. (pessoa física)

NL

M. S. (pessoa física)

NL

Technical data

IPC Classification

Priority claims

NL

2011077 · 07/01/2013

Abstract

MÉTODO PARA A FABRICAÇÃO DE UM PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PARA FIBRAS ÓPTICAS POR MEIO DE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA E PRECURSOR PARA UMA PRÉ-FORMA PRIMÁRIA PROVIDA DE CAMADAS DE SÍLICA NÃO VITRIFICADAS E VITRIFICADAS DEPOSITADAS EM SUA SUPERFÍCIE INTERNA A presente invenção se refere a um método para a fabricação de um precursor. Em outras palavras, a presente invenção se refere a um método para uma pré-forma primária para fibras ópticas por meio de um processo de deposição de plasma interno, esse método compreende as etapas de: provisão de um tubo de substrato oco tendo um lado de fornecimento e um lado de descarga; criação de uma primeira zona de reação de plasma tendo primeiras condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica não vitrificadas em pelo menos parte da superfície interna do dito tubo de substrato no ou próximo a um ponto de reversão no lado de descarga para prover um tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna; e, subsequentemente, criação de uma segunda zona de reação de plasma tendo segundas condições de reação no interior do dito tubo de substrato oco por meio de radiação eletromagnética para efetuar a deposição de camadas de sílica vitrificadas no dito tubo de substrato tendo camadas não vitrificadas em pelo menos uma parte de sua superfície interna para obter um tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas; e resfriamento do tubo de substrato tendo camadas de sílica não vitrificadas e vitrificadas depositadas obtidas na etapa iii) para obter o dito precursor para uma pré-forma primária.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 26/06/2014, observadas as condições legais

06/22/2021

RPI 2633

Deferimento

#9.1

05/11/2021

RPI 2627

Retificação de publicação

#3.8

Rerefente à RPI 2431 de 17/11/2015, quanto ao item (54)

04/13/2021

RPI 2623

Exigência preliminar

#6.21

10/15/2019

RPI 2545

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

02/27/2018

RPI 2460

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/17/2015

RPI 2341

Pedido de patente depositado

#2.1

09/09/2014

RPI 2279

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18140012433 em 26/06/2014 04:02(SP).

08/12/2014

RPI 2275

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