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Revista da Propriedade Industrial, 10 de setembro de 2019

WIER

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu. O ato publicado nesta edição: recurso provido (decisão reformada para: deferimento).
Recurso providoRPI nº 2540, 10 de setembro de 2019MistaRegistro de marca em vigorClasse 09

Sinal publicado

Logotipo da marca WIER
Processo INPI
909099588
Despachos nesta edição
1
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Publicado nesta edição

O despacho desta publicação

Despacho IPAS237

Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)

Recurso provido

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu.

Teor da publicação

Protocolo: 850180148159 (25/05/2018) Petição (tipo): Recurso contra decisão em processo de registro (333.17) Requerente: PLASMATECH PESQUISA DESENVOLVIMENTO E SOLUÇÕES INOVADORAS Procurador: Edemar Soares Antonini

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Sobre a marca

Titular
WIER TECNOLOGIA PLASMA E OZONIO LTDA.
13.729.366/0001-48
Procurador ou escritório
E. A. (pessoa física)
Data de depósito
11 de março de 2015
Classe de Nice
Classe 09

Histórico de despachos

12
  1. RPI nº 2753Petição10/10/2023

    Emissão de folha de rosto de cópia reprográfica simples

  2. RPI nº 2740Despacho11/07/2023

    Requerimento não provido (mantida a concessão)

  3. RPI nº 2571Nulidade14/04/2020

    Notificação de instauração de processo de nulidade a requerimento

  4. RPI nº 2548Petição05/11/2019

    Emissão de folha de rosto de cópia reprográfica simples

  5. RPI nº 2545Registro15/10/2019

    Concessão de registro

  6. RPI nº 2540Recurso providoEsta publicação10/09/2019

    Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)

  7. RPI nº 2501Petição11/12/2018

    Deferimento da petição

  8. RPI nº 2480Recurso17/07/2018

    Notificação de recurso

  9. RPI nº 2469Petição02/05/2018

    Emissão de folha de rosto de cópia reprográfica simples

  10. RPI nº 2464Indeferimento27/03/2018

    Indeferimento do pedido

  11. RPI nº 2327Oposição11/08/2015

    Notificação de oposição

  12. RPI nº 2309Publicação07/04/2015

    Publicação de pedido de registro para oposição (exame formal concluído)

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