PANTEC
Publicado nesta edição
Os 3 despachos desta publicação
Despacho IPAS699
Ato de prejudicar petição
Andamento de petição apresentada no processo.
Teor da publicação
Protocolo: 850120033218 (14/03/2012) Petição (tipo): Manifestação [em processo de registro] (339.5) Requerente: PAN AMERICAN TECNOLOGIA LTDA Procurador: CHARLES SOARES ROCHA Detalhes do despacho:A petição de apresentação de manifestação à oposição foi prejudicada, uma vez que o pedido de registro foi arquivado por falta de cumprimento de exigência de mérito.
Despacho IPAS139
Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de cumprimento de exigência de mérito
O processo foi encerrado sem registro.
Despacho IPAS699
Ato de prejudicar petição
Andamento de petição apresentada no processo.
Teor da publicação
Protocolo: 810110429158 (08/06/2011) Petição (tipo): Oposição (332.1) Requerente: PLANTECH ENGENHARIA E SISTEMAS LTDA Procurador: BRITÂNIA MARCAS E PATENTES LTDA Detalhes do despacho:A petição de apresentação de oposição foi prejudicada, uma vez que o pedido de registro foi arquivado por falta de cumprimento de exigência de mérito.
Sobre a marca
- Titular
- PAN AMERICAN TECNOLOGIA LTDA
- 09.263.767/0001-88
- Procurador ou escritório
- C. R. (pessoa física)
- Data de depósito
- 23 de março de 2011
- Classe de Nice
- Classe 37
Histórico de despachos
6- RPI nº 2382PetiçãoEsta publicação30/08/2016
Ato de prejudicar petição
- RPI nº 2382Arquivamento30/08/2016
Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de cumprimento de exigência de mérito
- RPI nº 2382PetiçãoEsta publicação30/08/2016
Ato de prejudicar petição
Exigência de mérito
OPOSIÇÃO(ÕES) de terceiro(s) indicado(s), face à publicação / republicação do pedido de registro
PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.