Revista da Propriedade Industrial, 31 de maio de 2016

HEXA FOTOQUÍMICA

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu. O ato publicado nesta edição: recurso provido (decisão reformada para: deferimento).

Recurso providoRPI nº 2369, 31 de maio de 2016MistaPedido definitivamente arquivadoClasse 01

Sinal publicado

Processo INPI: 828055700
Despachos nesta edição: 1

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Publicado nesta edição

O despacho desta publicação

Despacho IPAS237

Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)

Recurso provido

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu.

Teor da publicação

Protocolo: 810080103403 (20/03/2008) Petição (tipo): Recurso contra indeferimento de pedido de registro de marca (333.1) Requerente: FOTOQUÍMICA HEXA IND. E COM. DE PRODUTOS QUÍMICOS LTDA Procurador: TECNOMARK ASSESSORIA DA PROPRIEDADE INDUSTRIAL SC LTDA Detalhes do despacho:CONFORME RESSALVA CONFERIDA.

Sobre a marca

Titular: FOTOQUÍMICA HEXA IND. E COM. DE PRODUTOS QUÍMICOS LTDA; 62.759.808/0001-04
Procurador ou escritório: Tecnomark Marcas e Patentes
Data de depósito: 19 de janeiro de 2006
Classe de Nice: Classe 01

Histórico de despachos

RPI nº 2390Arquivamento25/10/2016
Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de pagamento da concessão
RPI nº 2369Recurso providoEsta publicação31/05/2016
Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)
RPI nº 2106Transferência17/05/2011
ANOTADA A ALTERAÇÃO DE NOME e/ou DE SEDE/ENDEREÇO.
RPI nº 1954Recurso17/06/2008
RECURSO(S) INTERPOSTO(S) contra a decisao indicada.
RPI nº 1933Indeferimento22/01/2008
INDEFERIDO O PEDIDO DE REGISTRO, com base na norma legal indicada.
RPI nº 1834Publicação01/03/2006
PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.