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Revista da Propriedade Industrial, 22 de janeiro de 2008

HEXA FOTOQUÍMICA

O pedido foi negado. Cabe recurso em 60 dias. O ato publicado nesta edição: indeferido o pedido de registro, com base na norma legal indicada..
IndeferimentoRPI nº 1933, 22 de janeiro de 2008MistaPedido definitivamente arquivadoClasse 01

Sinal publicado

Processo INPI
828055700
Despachos nesta edição
1
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Publicado nesta edição

O despacho desta publicação

Despacho 100

INDEFERIDO O PEDIDO DE REGISTRO, com base na norma legal indicada.

Indeferimento

O pedido foi negado. Cabe recurso em 60 dias.

Teor da publicação

INCISO XIX DO ART. 124 DA LPI, REG 820412090.

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Sobre a marca

Titular
FOTOQUÍMICA HEXA IND. E COM. DE PRODUTOS QUÍMICOS LTDA
62.759.808/0001-04
Procurador ou escritório
Tecnomark Marcas e Patentes
Data de depósito
19 de janeiro de 2006
Classe de Nice
Classe 01

Histórico de despachos

6
  1. RPI nº 2390Arquivamento25/10/2016

    Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de pagamento da concessão

  2. RPI nº 2369Recurso provido31/05/2016

    Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)

  3. RPI nº 2106Transferência17/05/2011

    ANOTADA A ALTERAÇÃO DE NOME e/ou DE SEDE/ENDEREÇO.

  4. RPI nº 1954Recurso17/06/2008

    RECURSO(S) INTERPOSTO(S) contra a decisao indicada.

  5. RPI nº 1933IndeferimentoEsta publicação22/01/2008

    INDEFERIDO O PEDIDO DE REGISTRO, com base na norma legal indicada.

  6. RPI nº 1834Publicação01/03/2006

    PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.