Revista da Propriedade Industrial, 3 de dezembro de 2013

ATECH TECNOLOGIAS CRÍTICAS

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu. O ato publicado nesta edição: recurso provido (decisão reformada para: deferimento).

Recurso providoRPI nº 2239, 3 de dezembro de 2013MistaPedido definitivamente arquivadoClasse 42

Sinal publicado

Processo INPI: 826086926
Despachos nesta edição: 1

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Publicado nesta edição

O despacho desta publicação

Despacho IPAS237

Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)

Recurso provido

O recurso foi aceito e a decisão anterior caiu.

Teor da publicação

Protocolo: 18070052550 (13/08/2007) Petição (tipo): Recurso (SINPI P04) Requerente: FUNDAÇÃO APLICAÇÕES DE TECNOLOGIAS CRÍTICAS ATECH Detalhes do despacho:EM CONFORMIDADE COM O PARECER TÉCNICO EXARADO NOS AUTOS DO PROCESSO PELA COORDENAÇÃO GERAL DE RECURSOS E PROCESSOS ADMINISTRATIVOS DE NULIDADE. CONHEÇO DO RECURSO INTERPOSTO. DOU-LHE PROVIMENTO. REFORMO A DECISÃO PROFERIDA. DEFIRO O PEDIDO DE REGISTRO SEM DIREITO AO USO EXCLUSIVO DA EXPRESSÃO "TECNOLOGIAS CRITICAS".

Sobre a marca

Titular: FUNDAÇÃO APLICAÇÕES DE TECNOLOGIAS CRÍTICAS ATECH; 01.710.917/0001-42
Procurador ou escritório: DINAMICA MARCAS E PATENTES
Data de depósito: 28 de janeiro de 2004
Classe de Nice: Classe 42

Histórico de despachos

RPI nº 2260Arquivamento29/04/2014
Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de pagamento da concessão
RPI nº 2239Recurso providoEsta publicação03/12/2013
Recurso provido (decisão reformada para: Deferimento)
RPI nº 1954Recurso17/06/2008
RECURSO(S) INTERPOSTO(S) contra a decisao indicada.
RPI nº 1901Indeferimento12/06/2007
INDEFERIDO O PEDIDO DE REGISTRO, com base na norma legal indicada.
RPI nº 1729Publicação25/02/2004
PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.