Dado oficial do INPI

COMPOSTO DE FENOXIFOSFAZENO RETICULADO, SEU PROCESSO DE PREPARAÇÃO, RETARDANTE DE CHAMA COMPREENDENDO O REFERIDO COMPOSTO, COMPOSIÇÕES DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA E ARTIGOS MOLDADOS DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP1999004256

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Dados do pedido

Número

PI9913002

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/08/1999

Publicação

25/09/2001

PCT

JP1999004256

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Andamento no INPI

Depósito05/08/99
Publicação25/09/01
Exame
Deferimento14/09/10
Concessão31/05/11
Extinto19/09/17

Patente concedida em 31/05/2011 e depois extinta em 19/09/2017. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 19/09/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Otsuka Chemical Co., Ltd.

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Inventores

T. Y. (pessoa física)

Y. N. (pessoa física)

Y. T. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C07F 9/08 C07F 9/6581 C08J 5/00 C08K 5/5399 C08L 101/00 C08L 85/02 C09K 21/12 C09K 21/14

Prioridades unionistas

10/228897 · 13/08/1998

10/248415 · 02/09/1998

Resumo técnico

Patente de Invenção: "COMPOSTOS DE FENOXIFOSFAZENO RETICULADOS, PROCESSO PARA A SUA PREPARAÇÃO, RETARDANTES DE CHAMA, COMPOSIÇÕES DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA E MOLDES DE RESINAS RETARDANTES DE CHAMA" . Esta invenção provê um retardante de chama livre de halogênio que vantajosamente tem um ponto de fusão alto e uma baixa volatilidade e não prejudica as propriedades inerentes das resinas. O retardante de chama de invenção é um composto de fosfazeno reticulado com um grupo de reticulação tal como grupo fenileno, onde cada um dos grupos reticulados é interposto entre os dois grupos de oxigênio deixados após a eliminação dos grupo fenila do composto de fosfazeno; o composto de fenoxifosfazeno reticulado não tem nenhum grupo hidroxila livre (derivado dos grupos de reticulação); e a quantidade dos grupos fenila no composto reticulado é de 50 a 99,9% com base no número total de grupos fenila no composto de fosfazeno.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2422 de 06-06-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

19/09/2017

RPI 2437

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

06/06/2017

RPI 2422

Concessão da patente

#16.1

31/05/2011

RPI 2108

Deferimento

#9.1

14/09/2010

RPI 2071

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/02/2010

RPI 2042

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

14/07/2009

RPI 2010

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

25/09/2001

RPI 1603

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