Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
27/09/2005
RPI 1812
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Dado oficial do INPI
FORNO DE TRATAMENTO TÉRMICO CONTÍNUO E PROCESSO DE CONTROLE DA ATMOSFERA E PROCESSO DE RESFRIAMENTO NO FORNO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP1999001498
Dados do pedido
Número
PI9904910Tipo
Patente de Invenção
Depósito
25/03/1999
Publicação
20/06/2000
PCT
JP1999001498 Andamento no INPI
- Depósito25/03/99
- Publicação20/06/00
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/09/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
K. C. (pessoa física)
JP
Inventores
I. S. (pessoa física)
JP
N. U. (pessoa física)
JP
S. I. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
10/100536 · 26/03/1998
Resumo técnico
Patente de Invenção: "FORNO DE TRATAMENTO TÉRMICO CONTÍNUO E PROCESSO DE CONTROLE DA ATMOSFERA E PROCESSO DE RESFRIAMENTO NO FORNO" . Um forno de tratamento térmico contínuo tendo uma de uma pluralidade de zonas do forno, exceto a primeira e a última das zonas, como uma zona de resfriamento rápido 11, para resfriamento rápido de um material por sopro de um gás atmosférico, que compreende uma câmara vedada por cilindro 3 dividida na entrada por um primeiro e segundo dispositivos de vedação por cilindro 4A e 4B de a jusante e um terceiro dispositivo de vedação por cilindro 4C na saída como meios de vedação para gás atmosférico, e em que a entrada do primeiro dispositivo de vedação por cilindro e a saída do terceiro dispositivo de vedação por cilindro são conectadas, e/ou a câmara vedada por cilindro e uma parte de corrente mais elevada 6 na zona de resfriamento rápido são conectadas, e em que a concentração de hidrogênio no forno é controlada a 10% ou mais alto na zona de resfriamento rápido e é controlada a 10% ou mais baixo na zona do forno na entrada da zona de resfriamento rápido. Um forno de tratamento térmico contínuo capaz de evitar a mistura de gases atmosféricos na zona de resfriamento rápido e o gás atmosférico na zona (zona de aquecimento, zona de resfriamento ou semelhantes) adjacente à zona de resfriamento rápido de um sistema de resfriamento por jato de gás por um meio simples, e um processo de controle do gás atmosférico no forno capaz de evitar nitretação são proporcionados.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
11/01/2005
RPI 1775
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
20/06/2000
RPI 1537
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